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长光1.5米扫描干涉场曝光系统顺利通过验收

放大字体  缩小字体 发布日期:2020-09-09  浏览次数:30
核心提示:1.5米扫描干涉场曝光系统,其目标是具备以步进扫描多线曝光方式制作500mm×1500mm全息光栅的能力。研制出了拥有制作最大面积650mm×1700mm单体无拼缝全息光栅能力的扫描干涉场曝光系统。
2020年8月,国家自然科学基金委员会信息学部在长春组织专家对国家自然科学基金国家重大科研仪器设备研制专项“1.5米扫描干涉场曝光系统”进行了项目验收。 
 
专家组认为,项目组全面完成了项目的研制任务,成功研制出1.5米扫描干涉场曝光系统,该仪器的各项工作性能均达到或超过了任务书指标;项目管理文件和技术文档记录全面,内容真实可靠,档案立卷符合规范要求;项目执行期间,围绕单体大尺寸全息光栅制作的一系列核心物理和技术问题开展前沿探索和技术攻关,取得了系列重要研究成果、技术创新和突破。 
 
专项研制的仪器设备包括一台1.5米扫描干涉场曝光系统及四台制作全息光栅所需的辅助工艺设备。该项目主要面向高能拍瓦激光输出技术、激光惯性约束核聚变研究及高端光刻机产业等战略高科技领域对大面积全息光栅的迫切需求,研制了1.5米扫描干涉场曝光系统,其目标是具备以步进扫描多线曝光方式制作500mm×1500mm全息光栅的能力。经过7年的攻关,项目组通过解决和突破长程重载工作台超精密定位、曝光干涉场超精密测量及相位锁定等十几项基础问题和关键技术,研制出了拥有制作最大面积650mm×1700mm单体无拼缝全息光栅能力的扫描干涉场曝光系统。该项目的顺利实施与验收,标志着我国具备了独立制作米级单体无拼缝全息光栅的能力,打破了由国外长期垄断的局面,对高能激光、可控核聚变、高端光刻等领域的技术与产业推进具有重大的战略意义。 
 
验收会上,与会领导和项目验收专家组肯定了项目组在大型科研仪器研制方面取得的丰硕成果,并表示该仪器多项技术指标达到国际领先水平。项目负责人巴音贺希格表示,项目的验收是一个新的起点,项目组会继续刻苦钻研、攻坚克难,不断推进项目的科技成果转化,为国家科技进步和相关领域事业的发展贡献力量。  
 
 
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